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課程名稱 |
高科技廠務系統設計實驗
High Tech Facility System Design Lab |
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開課學期 |
107-1 |
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授課對象 |
工學院 土木工程學系 |
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授課教師 |
張陸滿 |
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課號 |
CIE5131 |
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課程識別碼 |
521 U9210 |
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班次 |
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學分 |
1.0 |
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全/半年 |
半年 |
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必/選修 |
選修 |
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上課時間 |
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上課地點 |
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備註 |
初選不開放。暑期課程。修過高科技廠房設施設計、設施營建管理或由授課教師認可。(修過兩門者優先。)與莊子壽合授
限本系所學生(含輔系、雙修生)
總人數上限：12人 |
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Ceiba 課程網頁 |
http://ceiba.ntu.edu.tw/1071CIE5131_ |
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課程簡介影片 |
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核心能力關聯 |
本課程尚未建立核心能力關連 |
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課程大綱
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為確保您我的權利,請尊重智慧財產權及不得非法影印
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課程概述 |
本課程教授高科技廠務系統之基礎知識，授課範圍包含電力儀控系統、機械空調系統、純水系統以及氣體化學系統之架構、流程、功能與原理，並輔以系統實務操作與工廠現地參觀來提升學習成效 |
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課程目標 |
本課程設計的目的為提供高科技廠務系統所需的基本設計知識，加強學生對高科技廠廠務系統在實務上的理解。 |
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課程要求 |
修過高科技廠房設施設計、高科技廠房設施營建管理或由授課教師認可。(兩門課皆修過者優先考慮。 |
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預期每週課後學習時數 |
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Office Hours |
另約時間 |
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指定閱讀 |
1. Whyte, W., Cleanroom Technology, John Wiley, New York 2001
2. Geng, H., Semiconductor Manufacturing Handbook, McGraw-Hill, 2005
3. ISO/DIS 14644-3 Test methods for measuring the performance of an installation, a cleanroom, or an associated controlled environment (2013).
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參考書目 |
1. Whyte, W., Cleanroom Design, John Wiley, 2nd ed., New York 1999
2. Chang, C.Y., and Sze, S.M., ULSI Technology, McGraw-Hill Company, Inc., International Edition, 1996, New York.
3. International Organization for Standards, ISO Standard 14644-4, part 4: Design, Construction, Start up, Geneva, Switzerland, 1999.
4. Nishi, Y., Doering, K., and Wooldridge, T., Handbook of Semiconductor Manufacturing Technology, Marcel Dekker, New York, 2000.
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評量方式
(僅供參考) |
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週次 |
日期 |
單元主題 |
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第2週 |
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課程及安全規定說明及純水前處理 |
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第3週 |
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純水中及精煉處理 |
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第4週 |
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純水處理系統實作測驗與報告 |
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第5週 |
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氣體與化學品供應系統 |
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第6週 |
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特殊氣體管路焊接與品質檢驗 |
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第7週 |
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氣體與化學品供應系統實作測驗與報告 |
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第8週 |
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機械系統-空調水側及氣側系統 |
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第9週 |
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機械系統-空氣處理系統 |
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第10週 |
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機械系統實作測驗與報告 |
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第11週 |
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電力與儀控系統-高/低壓系統 |
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第12週 |
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電力與儀控系統-中央監控 |
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第13週 |
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電力與儀控系統實作測驗與報告以及實驗總結 |
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